維開目前掌握多項PVD關鍵核心技術，可獨立研發(fā)制造各類真空鍍膜系統(tǒng)及關鍵零部件，從而可真正實現(xiàn)為每一位客戶提供最合適的PVD設備和工藝。

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離子源：

各種口徑4寸至8寸霍爾源，射頻源和考夫曼源。

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標準濺射靶槍：

直徑2寸至12寸圓形濺射靶槍。

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矩形靶槍：

長度500毫米至1200毫米矩形靶槍。

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鍍膜源：

用于沉積特殊材料如銦（In）、ZnS等的專用鍍膜源。

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自動機械手：

多款自動二維/三維機械手。

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工裝掛具：

適用于不同工藝需求的二十余種工件臺及掛具。

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工件盤溫控：

可提供-80℃至1200℃溫控的各類工件臺。

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控制系統(tǒng)：

針對真空鍍膜應用開發(fā)的VKOS全自動控制系統(tǒng)。