M600是維開(kāi)科技開(kāi)發(fā)的一款通用型磁控濺射系統(tǒng)，功能強(qiáng)大，穩(wěn)定可靠，自動(dòng)化控制程度高，維護(hù)簡(jiǎn)單，可廣泛滿足生產(chǎn)和研發(fā)中對(duì)磁控濺射的工藝需求。

§

真空進(jìn)樣室：

單片/多片全自動(dòng)進(jìn)樣室，可選配

§

抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

§

真空檢測(cè)：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

§

流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計(jì)

§

濺射電源：

直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§

偏壓：

射頻/脈沖直流

§

濺射靶槍：

最多5個(gè)

§

極限真空度：

8E-6Pa

§

工件盤(pán)控溫：

-50℃至800℃

§

均勻可鍍區(qū)：

最大?300mm

§

鍍膜均勻性：

±2%

§

鍍膜重復(fù)性：

±2%

§

占地面積：

3.2m（長(zhǎng)）*2.3m（寬）*2.2m（高）