E800D是維開(kāi)科技開(kāi)發(fā)的一款通用型電子束蒸發(fā)系統(tǒng)，功能強(qiáng)大，穩(wěn)定可靠，自動(dòng)化控制程度高，維護(hù)簡(jiǎn)單，可滿足生產(chǎn)和研發(fā)中對(duì)電子束蒸發(fā)的各種工藝需求。

§ 自動(dòng)進(jìn)樣室：

單片/多片全自動(dòng)進(jìn)樣室，可選配

§ 抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

§ 真空檢測(cè)：

全量程真空規(guī)

§ 電子槍功率：

最大10千瓦

§ 坩堝數(shù)量：

最多6個(gè)

§ 離子源：

考夫曼/霍爾離子源

§ 膜厚監(jiān)控：

晶振控制器

§ 掛具類型：

穹頂式/平盤(pán)

§ 工件角度：

-45°至+45°可調(diào)

§ 極限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盤(pán)控溫：

室溫至500℃

§ 均勻可鍍區(qū)：

最大?300mm

§ 鍍膜均勻性：

±2%

§ 鍍膜重復(fù)性：

±2%

§ 占地面積：

4.0m（長(zhǎng)）*3.1m（寬）*3.0m（高）