Ion500E是維開科技開發(fā)的一款通用型離子束刻蝕系統(tǒng)，功能強(qiáng)大，穩(wěn)定可靠，自動(dòng)化控制程度高，維護(hù)簡(jiǎn)單，可以滿足中小批量生產(chǎn)需求和實(shí)驗(yàn)平臺(tái)的一般性需求。

§ 抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

§ 真空檢測(cè)：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

§ 流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計(jì)

§ 偏壓：

射頻/脈沖直流

§ 離子源：

射頻/直流離子源，可選配

§ 極限真空度：

1E-5Pa

§ 工件盤控溫：

室溫至500℃

§ 均勻刻蝕區(qū)：

最大?150mm

§ 刻蝕均勻性：

±5%

§ 占地面積：

1.5m（長(zhǎng)）*1.8m（寬）*2.1m（高）