M500是維開科技開發(fā)的一款緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，占地面積小，自動化控制程度高，維護(hù)簡單，可以滿足高校和研究所研發(fā)需求，有效提高研發(fā)效率。

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真空進(jìn)樣室：

可選配

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抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

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真空檢測：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

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流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計

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濺射電源：

直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

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偏壓：

射頻/脈沖直流

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濺射靶槍：

最多4個

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極限真空度：

1E-5Pa

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工件盤控溫：

室溫至300℃

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均勻可鍍區(qū)：

最大?150mm

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鍍膜均勻性：

±3%

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鍍膜重復(fù)性：

±2%

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占地面積：

3.3m（長）*2.5m（寬）*2.4m（高）