I2000是維開科技開發(fā)的一款鏈?zhǔn)缴a(chǎn)型磁控濺射系統(tǒng)，鍍膜面積大，工作穩(wěn)定，自動(dòng)化控制程度高，維護(hù)簡(jiǎn)單，可以滿足大批量生產(chǎn)和大尺寸工件濺射鍍膜的需求。

§ 真空進(jìn)樣室：

全自動(dòng)進(jìn)樣室，可選配

§ 抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

§ 真空檢測(cè)：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

§ 流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計(jì)

直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

§ 偏壓：

射頻/脈沖直流

§ 離子源：

陽極層/考夫曼/射頻離子源，可選配

§ 極限真空度：

3E-5Pa

§ 工件盤控溫：

室溫至300℃

§ 均勻可鍍區(qū)：

1000mm（長(zhǎng)）*1000mm（寬）

§ 鍍膜均勻性：

±3%

§ 鍍膜重復(fù)性：

±2%

§ 占地面積：

6.0m（長(zhǎng)）*3.7m（寬）*2.7m（高）