E1100是維開(kāi)科技開(kāi)發(fā)的一款生產(chǎn)型電子束蒸發(fā)系統(tǒng)，鍍膜面積大，工作穩(wěn)定，自動(dòng)化程度高，維護(hù)簡(jiǎn)單，可滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)和大尺寸工件蒸發(fā)鍍膜的需求。

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抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機(jī)械泵

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真空檢測(cè)：

全量程真空規(guī)

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電子槍功率：

最大10千瓦

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坩堝數(shù)量：

最多8個(gè)

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離子源：

射頻/考夫曼/霍爾離子源

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膜厚監(jiān)控：

晶振控制器

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掛具類(lèi)型：

穹頂式/克努曾/行星式

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極限真空度：

2E-5Pa

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工件盤(pán)控溫：

室溫至300℃

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均勻可鍍區(qū)：

最大?300mm

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鍍膜均勻性：

±2%

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鍍膜重復(fù)性：

±2%

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占地面積：

4m（長(zhǎng)）*4m（寬）*3m（高）