M700 是維開科技開發(fā)的一款通用型磁控濺射系統(tǒng)，功能強大，穩(wěn)定可靠，自動化控制程度高，維護簡單，可廣泛滿足生產(chǎn)和研發(fā)中對磁控濺射的工藝需求。

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真空進樣室：

單片/多片全自動進樣室，可選配

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抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵

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真空檢測：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

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流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計

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濺射電源：

直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

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偏壓：

射頻/脈沖直流

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濺射靶槍：

最多5個

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極限真空度：

8E-6Pa

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工件盤控溫：

-50℃至800℃

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均勻可鍍區(qū)：

最大?300mm

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鍍膜均勻性：

±2%

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鍍膜重復(fù)性：

±2%

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占地面積：

3.8m（長）*3.0m（寬）*2.5m（高）