M800是維開科技開發(fā)的一款高精度型磁控濺射系統(tǒng)，鍍膜均勻性高，維護簡單，可以滿足批量生產(chǎn)需求和實驗室對高精度反應(yīng)型磁控濺射和填孔工藝的需求。

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真空進樣室：

多片全自動進樣室，可選配

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抽氣系統(tǒng)：

低溫泵/磁懸浮分子泵+干式機械泵

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真空檢測：

全量程真空規(guī)+薄膜真空規(guī)

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流量控制：

數(shù)字式質(zhì)量流量計

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濺射電源：

直流/射頻/脈沖直流，可自由切換

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偏壓：

射頻/脈沖直流

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離子源：

射頻&考夫曼&霍爾離子源，可選配

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濺射靶槍：

最多4個

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極限真空度：

1E-5Pa

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均勻可鍍區(qū)：

5*?300mm

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鍍膜均勻性：

±1.5%

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鍍膜重復(fù)性：

±2%

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占地面積：

4.35m（長）*4.42m（寬）*2.85m（高）